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电子半导体废水怎么处理|电子半导体废水如何处理

该晶圆创造厂隶属于华北地区划分,主耍产量8厘米光电器件晶圆,单日废水处理工艺废气量约800吨。鉴于产量期间中在使用过多氢佛酸通过晶圆蚀刻,以至于废水处理工艺中氟化物溶度多达200-300mg/L,远超各国废气标准的(10mg/L接下来)。 污废水 化学成分及特征 电镀废水大部分来于这三个环节: 晶圆蚀刻制作工艺 :含ab剂值氟化物(HF)、盐酸及极富巨资属 化学上的设备打磨(CMP)废渣 :含nm级硅科粒、有机的络合剂 的设备清洁工作化工废水 :含异丙醇、氯离子等可挥发物 加工处理流程步骤流程步骤 用到"化学物质石雕文化悠长岁月中+混凝土石雕文化悠长岁月中+长度过滤器"三阶段补救系统: 五级清理 :添加氯化钙和氢腐蚀钙,养成氟化钙析出,氟化物避开率达85% 中级治理 :获取PAC(缔合氯化铝)和PAM(PP酰胺),快速清理胶体溶液态污染源物 三阶段治理 :凭借多有机溶剂油烟净化器器和物理吸附性炭物理吸附,出水出水氟化物浓度值稳定的在8mg/L下面的 至关重要设施设备还包括:pH自然设定模式、斜管沉淀物池、板框过滤机(污泥干化脱水器)。 最终能够郊果 产品开机运行两年探测信息提示 : 氟化物人均浓硫酸浓度:7.2mg/L(高出国度规定) COD删去率:92% 污水含水量率:≤65% 年回收处理氟化钙副厂品约150吨,构建自然无害化巧用

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